德国弗劳恩霍夫光子微系统研究所正积极投身于 AR 技术的革新，致力于开发高性能的半透明 MicroOLED 显示器。

在先前突破性地实现了 20% 透明度的显示器基础上，该团队现已首次在 CMOS MicroOLED 显示器领域实现了 45% 透明度，这一成就标志着AR显示技术的一次重要飞跃。

硅基 MicroOLED 凭借其卓越的像素密度（PPD）、高亮度、高分辨率、高填充因子、出色的能效以及更长的使用寿命，被视为 VR、AR 及 MR 应用中不可或缺的图像生成核心。然而，传统硅基技术的透明度局限一直是阻碍透视型 AR 设备发展的主要障碍，迫使设计者不得不依赖复杂且笨重的光学系统，这不仅增加了设备的体积和重量，还降低了整体的光学效率。

德国弗劳恩霍夫光子微系统研究所的研究人员提出了一种革命性的解决方案，将超薄电路层与精密微光学组件直接集成于芯片之上，创造出一种新型透明微显示器，该显示器同时兼备光学组合器的功能。这一设计优化了光学路径，缩减了设备的体积，还大幅提升了光学效率。

研究团队介绍道：“我们的创新之处在于利用现代 CMOS 工艺在绝缘硅晶片上构建了超薄电路层，并通过精密的 IC 设计和独特的工艺流程，将其完美转移至玻璃基板上，从而实现了这款高透明度的微型显示器。”

该研究所表示未来将持续深耕透明度提升技术，并积极准备将这一前沿成果转化为面向市场与客户需求的定制化解决方案，推动 AR 技术迈向更加广阔的应用前景。